真空电镀的正确使用说明

     咱们常见的东莞真空电镀厂运用的电镀方法有两种，一种是蒸发镀别的一种是真空溅射镀。

     真空蒸镀是将产品喷底漆干后装在夹具上上挂公转架送入真空炉，然后开启镀膜机把镀膜机内内空气抽走，当达到必定真空条件是，然后将真空炉内公转架上的钨丝通电加热。当钨丝温度热到600度时分钨丝上的铝片开端融化蒸发融化气化（金属融化温度不同而定一般常见的金属为“铝，镍、铜等但由于熔点，技能操控等方面的缘由，镀铝变成最盛行的做法），然后开动真空炉内的公转架的翻滚气化的铝片堆积在产品的外表，构成了一层薄膜。

     真空溅镀主要用灰光防电将氩气AR离子撞击靶材外表，靶材的原子被弹出而堆积在基板外表构成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来得好，但是电镀速度却比蒸镀慢的多。新的溅镀设备简直都是用磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围氩气离子化，形成靶与氩气离子间的碰击几率添加，提高溅镀速率。

     以上两种东莞真空电镀厂方法都必须在真空条件下进行，否则会瞬间氧化。