真空度对真空电镀有什么影响？

为了将蒸发膜的物质转化为气体，各种涂层技术都需要一个蒸发源或目标。随着原材料和靶材的不断改进，金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物都可以蒸发各种金属膜和介质膜，在不同材料的蒸发中获得多层膜。

本发明以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射击和磁控制等一系列新技术，为科学研究和生产提供新的薄膜制备技术。

简而言之，金属、合金或化合物在被涂物体(称为基材、基材或基材)上凝固并沉积在真空中，即真空涂层。

真空电镀时，真空度一般为10负3次左右。真空度是真空电镀必须严格要求的指标之一。它直接关系到电镀产品的颜色、耐磨性和牢固性。通常在电镀过程中加入少量气体，通过控制电弧电源增加真空室母材的离化率，通过磁场控制电弧改变产品的外观和内在品质。

这主要是对电镀工艺的影响。无论什么样的电镀方法，真空度越高，炉内杂气原子越少，电镀成分越接近你想要的比例。简单来说，纯度和结晶状态更可控。

同时，对于涂层来说，加热是基本的必要条件，较高的真空可以防止基体表面的氧化和氮化，对涂层的结合力有很大的帮助。

如果真空度太低，镀出的产品会变黑，一段时间后会变黄。一般可以抽到5.0-2。如果产品要求很高，需要抽到2.0-2。当然产品要求不高，抽到-2也可以蒸发！

真空度取决于你的产品是否合格。如果是装饰膜，真空度的差异直接导致颜色的不同。

如果是功能膜，则是产品粘结强度、光学性能等指标的偏差。