真空电镀中溅射镀膜的优点分析

  真空电镀是通过溅射进行的。由于电镀方法的不同，同一电镀材料制成的薄膜效果也会有所不同。虽然肉眼看不见，但确实有一定的优势。膜厚稳定性好。由于溅射电镀的厚度与目标电流和放电电流密切相关，电流越高，溅射效率越高。在同一时间内，电镀的厚度相对较大，因为只要控制好电流值，电镀的厚度或薄度就可以。

  膜层结合力强，在真空电镀加工过程中，部分电子撞击基材表面，激活表面原子，产生清洁效果，溅射能量高于蒸发能量1-2个数量级，如此高能量电镀原子撞击基材表面，有更多的能量传递到基材上，产生更多的热能，加速电子激活原子的运动，电镀原子溶解，其他电镀原子沉积成膜，加强膜与基材的结合。

  镀层范围广，因为溅射镀层是通过氩离子的高速轰击溅出的，当然这个厚度在允许的范围内，控制电流。无论重复镀多少次，膜的厚度都不会改变，膜厚的稳定性可以归因于膜厚的良好可控性和重复性。与熔点不同，只能使用熔点较低的镀层材料，溅射镀层固体的物质可以成为镀层材料。