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真空电镀对镀层布局和联系力的意义

发布来源:东莞市光键塑胶制品有限公司  发布日期: 2021-09-27  访问量:0

  在电镀生产线上,真空电镀的预处置是电镀技术中非常关键的一步,基体数据处置的好坏直接影响到镀层的质量,因此应适当注意电镀前处置。

  镀件的镀前处理是决定电镀质量的最重要因素之一。在实习生产中,80%以上的电镀故障率在于预处理过程,因此电镀预处理的质量尤为重要。以下亚信塑料详细介绍了真空电镀时基体外观状况对涂层布局和联系力的影响。

真空电镀

  一、基体外观条件对涂层布局的意义。

  真空涂层由晶体或晶粒组成,晶体的大小、形状和放置方法决定了涂层的布局特性。在不同的电镀液中,金属涂层的布局特性也不同,主要是由于不同的堆积过程造成的。电镀开始时,基体数据的外观主要产生一些细小的点,即晶体核,随时添加,单个晶体数量添加,相互连接成片,形成镀层。

  二、基体外观对联系力的意义。

  联系力通常是指一个物体粘在另一个物体上的规模和程度。如果一层真空电镀因机械力或变形而脱落,或被气体吹走,或被腐蚀而剥落,则镀层缺乏联系力。联系力是电堆积的重要性能指标,它与基体数据电镀前的外观状况有着非常直接和重要的联系,联系力的质量直接影响着涂层的质量。

如果基体数据表面有大量的油污、腐蚀产品等污垢,电镀层不能直接与基体数据表面连接,导致涂层逐渐剥落,这也是涂层与基体数据表面连接不良的原因。相反,如果在电镀之前,电镀生产线上的基体数据外观得到了很好的清洁,电镀层就会直接接触到基体数据的外观,并与之紧密相连。

  三、基体外观状况对掩盖能力的意义。

  基体数据的外观状况是影响掩盖能力的主要因素之一。实习表明,当真空电镀金属在不同的基的基体数据上时,同一种镀液的掩盖可以有所不同。如果用铬酸溶液镀铬,当金属铬堆积在铜、镍、黄铜和钢上时,镀液的掩盖可以顺次减少。这是因为当金属离子在不同的基体数据上恢复堆积时,其过电位值有很大的不同。过电位较小的分出电位较正,即使在电流密度较低的部位也能达到分出电位的值。

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