真空电镀的相关作用？

一、电镀厂讲述了真空电镀的相关功能：

应用电解在机械制品上积累了附着力好但性能和基材不同的金属涂层技术。真空电镀层平均比热浸层薄，从几微米到几十微米不等。真空电镀后，可以在机械产品上获得装饰维护和各种功能的外表层，修复磨损和加工错误的工件。

此外，根据各种真空电镀需求有不同的功能。例如：

1.镀铜:打底，促进真空电镀层的附着和耐腐蚀。(铜容易氧化，氧化后铜绿不再导电，所以镀铜产品必须做铜维护)

2.镀镍:打底或做外观，促进耐腐蚀性和耐磨性(其中化学镍在现代工艺中超过镀铬)。(请注意，许多电子产品，如DIN头和N头，不再使用镍作为底部，主要是因为镍具有磁性，影响电性能中的无源互调)

3.镀金：改善导电接触阻抗，促进信号传输。(金最稳定，也最贵。

镀钯镍：改善导电接触阻抗，促进信号传输，耐磨性高于金。

5.镀锡铅:促进焊接能力，迅速被其他替代品取代(由于含铅现在大部分改为镀亮锡和雾锡)。

6.镀银:改善导电接触阻抗，促进信号传输。(银性能***，易氧化，氧化后导电)

二、电镀厂-真空电镀开发阶段：

(1)直流发电机阶段，这种电源耗能大，效率低，噪音大。它已经被淘汰了。

(2)硅整流阶段是直流发电机的替代产品，技术非常成熟，但效率低，体积大，控制不方便。仍有许多企业使用这种真空电镀电源。

(3)可控硅整流阶段是替代硅整流电源的主流电源，具有效率高、体积小、调节方便等特点。随着中央设备可控硅技术的成熟和发展，电源技术越来越成熟，并得到了广泛的应用。

(4)晶体管开关电源，即脉冲电源阶段的脉冲真空电镀电源，是当今最先进的真空电镀电源，是真空电镀电源的反动。该电源具有体积小、效率高、性能优越、纹波系数稳定等特点。脉冲真空电镀电源是发展方向，已在企业中应用。